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低发射率薄膜的红外隐身特性研究
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[cstr]
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北京航空航天大学,北京,100083

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Infrared Stealth Properties of Low Emissivity Thin Films
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    利用磁控溅射法制备了氧化铟锡(ITO)、掺铝氧化锌(ZAO)、TiO2/Ag/TiO2纳米多层等三种透明的低发射率薄膜.研究了这些低发射率薄膜以及降低材料红外发射率对降低红外辐射强度和红外隐身所起的作用.结果表明:降低红外发射率可以有效地抑制由于温度升高所带来的附加红外辐射;低红外发射率薄膜在红外隐身中有潜在应用价值.

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引用本文

刁训刚%郝维昌%王天民%武哲%黄俊.低发射率薄膜的红外隐身特性研究[J].宇航材料工艺,2007,37(5).

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