碘化钾类稳定剂在化学镀Ni-P工艺中的应用
DOI:
作者:
作者单位:

山东建筑工程学院材料科学与工程系,济南,250014

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:


Application of KI Stabilizer in Electroless Ni-P Alloy Plating Process
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    在合理选择化学Ni-P合金配方和工艺条件的前提下,采用对比试验比较了几种稳定剂对化学镀Ni-P合金镀液及镀层性能的影响,选取合适的工艺参数,采取正交试验方案,研究了KI与其他稳定剂复配时的性能变化规律,探讨了KI的稳定机理.结果表明,各稳定剂之间有的相互兼容、相互促进,有的则相互抵触、相互削弱对方的作用.复合稳定剂综合性能的提高程度明显优于单稳定剂,获得了复合稳定剂KI与Pb(Ac)2质量浓度分别为8 g/m3和1.2g/m3匹配的最佳工艺参数.

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

孙华%冯立明.碘化钾类稳定剂在化学镀Ni-P工艺中的应用[J].宇航材料工艺,2006,36(1).

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期: 2016-11-28
  • 出版日期: