纳米薄膜脉冲激光沉积技术

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纳米薄膜脉冲激光沉积技术
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CSTR:
                        [cstr]
                    
作者:
                        
                        
                    
作者单位:哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,%兰州物理研究所激光分子束外延技术实验室,
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Pulsed Laser Deposition of Nanometer Thin Films

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简要介绍了脉冲激光薄膜沉积(PLD)技术的物理原理、独具的特点,并且介绍了在PLD基础上结合分子束外延(MBE)特点发展起来的激光分子束外延(L-MBE),以及采用L-MBE技术制备硅基纳米PtSi薄膜的结果.

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引用本文

李美成%赵连城%杨建平%陈学康%吴敢.纳米薄膜脉冲激光沉积技术[J].宇航材料工艺,2001,31(4).

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在线发布日期: 2016-11-28
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