磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展
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作者单位:

航天材料及工艺研究所,北京 100076

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中图分类号:

TG14

基金项目:


Research Progress of W-Ti Alloy Targets for Magnetron Sputtering
Author:
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Aerospace Research Institute of Materials & Processing Technology,Beijing 100076

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    摘要:

    W-Ti合金靶材可作为原材料,通过磁控溅射技术,制备W-Ti、W-Ti-N、W-Ti-O等功能薄膜,应用于集成电路、薄膜太阳能电池等领域。本文介绍了W-Ti合金靶材的性能指标、各种制备技术和应用领域,提出高纯度、全致密、少富Ti相、小粒径、大尺寸、低成本是W-Ti合金靶材的重要方向。

    Abstract:

    W-Ti alloy targets can be used as raw materials to prepare W-Ti, W-Ti-N, W-Ti-O and other functional films by magnetron sputtering technology, which can be used in integrated circuits, thin film solar cells and other fields. In this paper, the performance indexes, preparation techniques and application areas of W-Ti alloy targets were introduced. Finally, the authors suggest that high purity, full density, less Ti-rich phase, small particle size, large size and low cost are important directions of W-Ti alloy targets.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

杨亚飞,姚草根,吕宏军,李启军,崔子振.磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展[J].宇航材料工艺,2021,51(6):10-16.

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  • 收稿日期:2021-08-06
  • 最后修改日期:2021-08-30
  • 录用日期:2021-09-26
  • 在线发布日期: 2022-01-13
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