冶金法提纯多晶硅退火工艺优化的数学模型分析与试验验证
CSTR:
作者:
作者单位:

1.厦门城市职业学院机械与自动化工程系,厦门 361000;2.美甘齐动(厦门)物料输送工程股份有限公司,厦门 361000;3.厦门理工学院软件工程学院,厦门 361000

作者简介:

朱徐立,1984年出生,博士,主要研究方向:多晶硅提纯工艺及装备技术。E-mail:xuli@xmcu.cn

通讯作者:

中图分类号:

O78

基金项目:

福建省中青年教师教育科研项目 JAT171051 福建省中青年教师教育科研项目(JAT171051)


Mathematical Model Analysis and Experimental Verification of Polycrystalline-Silicon Annealing Optimization by Metallurgical Method
Author:
Affiliation:

1.Department of Mechanical and Automation Engineering, Xiamen City University, Xiamen 361000;2.Xiamen MEGA PCE, Inc, Xiamen 361000;3.Software Engineering Institute, Xiamen University of Technology, Xiamen 361000

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    摘要:

    冶金法制备多晶硅过程中,通过对不同退火温控方案进行数学建模,探求优化的退火理论温度控制函数与曲线。数学模型表明,对硅铸锭直接进行保温,依靠自然热平衡退火,会使内部应力大于产生位错的临界应力;采用加热元件对硅铸锭适当加热保温可减缓降温速率。通过比较,选择较低的退火温度1 236℃和较短的退火时间8.52 ks作为试验退火温控方案。试验验证表明,该退火方案得到的多晶硅铸锭目视裂纹较少,少数载流子寿命与电阻率具有明显优势。

    Abstract:

    In the process of purifying polysilicon by metallurgical method,the temperature control function and curve of annealing theory are explored by mathematical modeling of different annealing temperature schemes. The mathematical model shows that the silicon ingot is directly insulated, depending on the natural thermal equilibrium annealing, the internal stress is greater than the critical stress of generating dislocation. The top heater is used to heat the top of the silicon ingot to reduce the cooling rate. By comparison, a lower annealing temperature of 1236℃ and a shorter annealing time 8.52 ks is chosen as a reasonable theoretical annealing control scheme.The experimental results show that the annealing scheme has the advantages of less visual crack and a few carrier lifetime and resistivity.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

朱徐立,徐隆,苏骑,吴虹琼.冶金法提纯多晶硅退火工艺优化的数学模型分析与试验验证[J].宇航材料工艺,2019,49(4):23-27.

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  • 收稿日期:2018-09-24
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  • 在线发布日期: 2019-08-30
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