铜基等离子体喷涂钨涂层性能
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TG146.4

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国家自然科学基金资助(11875230);江苏省“333”工程资助;江苏省青蓝工程资助(02312064)


Characterization of PS-W Coating on Cu Substrate
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    摘要:

    阐述了钨涂层微观结构影响机理以及涂层性能。通过等离子体喷涂工艺参数及微观形貌分析涂层微观结构和参数对涂层性能的影响,工艺参数主要包括喷涂功率、喷涂距离、送粉气量等。结果显示钨涂层是由钨粒子熔融沉积平铺成“圆饼状”或“花瓣状”的单层叠加而成,单层呈现柱状晶微观结构,厚度约10 μm、直径约50 μm的“圆饼状”单层是状态比较好的涂层结构。钨粒子熔化状态、沉积速率以及喷涂环境决定了熔化粒子的沉积形貌;与大气喷涂相比,真空喷涂钨涂层气孔率低、传热性能和结合性能较好,适合作为面对等离子体材料的制备技术。

    Abstract:

    The mechanism of micro-structure and coating performance of tungsten coating were discussed.The influence of spraying parameters on the properties of plasma spraying tungsten coating includ the spraying power, spraying distance and pulerized gas delivery. The results indicate tungsten molten drop spread to form the pancake morphology or flower morphology owing to singel layer overlying, which is the columnar crystal microstructure. The particle molting state, the deposition velocity and the spraying environment determine the morphology of tungsten coating.And the pancake morphology with a thickness of about 10 μm and a diameter of about 50 μm is the better coating structure. Compared with atmospheric plasma spraying tungsten coating, vacuum plasma spraying tungsten coating has lower porosity,better heat transfer capability, better bonding strength and less oxygen content.Therefore, tungsten coating used as plasma facing material is feasible.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

种法力,纪素艳,陈俊凌,郑学斌.铜基等离子体喷涂钨涂层性能[J].宇航材料工艺,2018,48(6):68-71.

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  • 收稿日期:2018-06-25
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  • 在线发布日期: 2019-01-15
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