TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究
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北京科技大学材料学院高温合金室,北京,100083%太原理工大学表面工程研究所,太原,030024

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Processing of Double Glow Plasma Chromising on TiAl Intermetallics
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    利用双层辉光离子渗金属技术(DGPSAT)对 TiAl金属间化合物进行渗Cr处理.研究了主要工艺参数对渗层表面合金含量CA和渗层厚度δ这两个目标函数的影响.结果表明,表面合金含量CA和渗层厚度δ随源极电压Vs、有效功率密度比κ的增加而增加;随阴极电压Vc的增加而减少.气压存在一个峰值,太高或太低都不利.工艺参数的最佳值:源极电压Vs为1 200 V~1 300 V,阴极电压为200 V~300 V,有效功率密度比κ为4~5,气压为25 Pa~30 Pa.

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引用本文

郑传林%谢锡善%董建新%徐重%贺志勇. TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究[J].宇航材料工艺,2002,32(2).

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  • 在线发布日期: 2016-11-28
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第十一届航天复合材料成形与加工工艺技术中心交流会 征文通知

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