低发射率薄膜的红外隐身特性研究

首页 > 过刊浏览>2007年第37卷第5期 >

低发射率薄膜的红外隐身特性研究
DOI:
                        
                    
作者:
                        
                        
                    
作者单位:北京航空航天大学,北京,100083
作者简介:
通讯作者:
中图分类号:
基金项目:

Infrared Stealth Properties of Low Emissivity Thin Films

Author:

Affiliation:

Fund Project:

摘要

图/表

访问统计

参考文献

相似文献

引证文献

资源附件

文章评论

摘要:

利用磁控溅射法制备了氧化铟锡(ITO)、掺铝氧化锌(ZAO)、TiO2/Ag/TiO2纳米多层等三种透明的低发射率薄膜.研究了这些低发射率薄膜以及降低材料红外发射率对降低红外辐射强度和红外隐身所起的作用.结果表明:降低红外发射率可以有效地抑制由于温度升高所带来的附加红外辐射;低红外发射率薄膜在红外隐身中有潜在应用价值.

Abstract:

参考文献

相似文献

引证文献

引用本文

刁训刚%郝维昌%王天民%武哲%黄俊.低发射率薄膜的红外隐身特性研究[J].宇航材料工艺,2007,37(5).

复制

文章指标

点击次数:
下载次数:
HTML阅读次数:
引用次数:

历史

收稿日期:
最后修改日期:
录用日期:
在线发布日期: 2016-11-28
出版日期:

投稿方式

引用本文

分享

文章指标

历史