TY - JOUR ID - TI - 化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展 AU - 李琳琳,李爱军,彭雨晴,李照谦,汤哲鹏 VL - 46 IS - 4 PB - 《宇航材料工艺》编辑部 SP - EP - PY - JF - 宇航材料工艺 JA - YHCLGY UR - http://www.yhclgy.com/yhclgy/home?file_no=3979&flag=1 KW - 界面相涂层,氮化硼,化学气相沉积,三氯化硼,氨气 KW - Interface coating,BN,CVD,BCl3,NH3 AB -