TY - JOUR ID - TI - 化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展 AU - 李琳琳,李爱军,彭雨晴,李照谦,汤哲鹏 VL - 46 IS - 4 PB - 《宇航材料工艺》编辑部 SP - EP - PY - JF - 宇航材料工艺 JA - YHCLGY UR - http://www.yhclgy.com/yhclgy/home?file_no=3979&flag=1 KW - 界面相涂层,氮化硼,化学气相沉积,三氯化硼,氨气 KW - Interface coating,BN,CVD,BCl3,NH3 AB -
阐述了BN 界面的优异性能和CVD 制备工艺的优缺点ꎬ主要介绍了CVD-BN 制备过程中沉积温
度、源气体比例、热处理温度等各因素的影响ꎬ指出CVD 法是制备高品质BN 界面涂层的优选方法ꎮ 优化CVD
工艺ꎬ对其制备原理进行深入研究ꎬ将是BN 界面涂层研究的重点ꎬ获得特定结构、性能稳定、厚度可控的BN 界
面相涂层是CVD 法制备BN 界面相涂层的难点。
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